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更新日期2020-12-03 11:10
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長期有效 |
上海伯東日本原裝進(jìn)口離子蝕刻機 IBE 包含小型離子蝕刻用于研究分析和大型離子蝕刻系統(tǒng)用于生產(chǎn)制造. 離子蝕刻系統(tǒng)對磁性材料, 黃金, 鉑和合金金屬提供**蝕刻技術(shù). 它很容易做各種材料的蝕刻.
上海伯東是日本伯東離子蝕刻機中國總代理
Hakuto 離子蝕刻機 IBE 技術(shù)規(guī)格:
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型號 |
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7.5IBE |
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10IBE |
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20IBE-C |
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20IBE-J |
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適用范圍 |
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適用于科研院所,實驗室研究 |
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適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實驗室研究 |
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適合中等規(guī)模量產(chǎn)使用的離子刻蝕機 |
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適合大規(guī)模量產(chǎn)使用的離子刻蝕機 |
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基片尺寸 |
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Φ4 X 1片或 |
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Φ8 X 1片 |
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Φ3 inch X 8片 |
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Φ4 inch X 12片 |
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離子源 |
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8cm 或 10cm |
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10cm 考夫曼離子源 |
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20cm 考夫曼離子源 |
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20cm 考夫曼離子源 |
Hakuto 離子蝕刻系統(tǒng) IBE 主要應(yīng)用:
1.薄膜磁頭 Thin film Magnetic Head
2.自旋電子學(xué) Spi***onics
3.MR Sencer
4.微電子機械系統(tǒng) MEMS Micro-electromechanical Systems
5.射頻設(shè)備 RF Devices
6.光學(xué)組件 Optical Component
7.超導(dǎo)電性 Super Conductivity
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