產品用途

PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。

產品組成

PECVD系統配置；

1.1200度開啟式滑動單溫區真空管式爐

2.等離子射頻電源

3.多路質量流量控制系統

4.真空系統（單獨購買）

產品特點

電源范圍廣；溫度范圍寬；濺射區域長；整管可調；精致小巧，性價比高，可實現快速升降溫，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的理想選擇，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。

系統名稱

集成型PECVD系統

1200℃小型PECVD系統

系統型號

PECVD-12IH-500A

PECVD-12IH-4Z/G

控制方式

液晶屏微PLC控制系統

手動

最高溫度

1200℃

加熱區長度

200mm

恒溫區長度

100mm

溫區

單溫區

石英管管徑

Φ60mm

Φ50mm

額定功率

1.2Kw

2Kw

額定電壓

220V

滑動方式及距離

自動滑動;200mm

手動滑動;200mm

溫度控制

30段程序控溫

50段程序控溫

控制精度

±1℃

爐管最高工作溫度

＜1200℃

氣路法蘭

采用多環密封技術卡箍快速連接

排風冷卻裝置

先進的空氣隔熱技術，結合熱感應技術，當爐體表面溫升到50℃時，

排溫風扇將自動啟動，使爐體表面快速降溫。

氣體控制方式

質量流量計（按鍵式）

氣路數量

2路（2-4路）

4路（可根據具體需要選配氣路數量）

流量范圍

0-500sccm(標準毫升/分，可選配）氮氣標定

精度

±1%F.S

響應時間

1sec

工作溫度（流量計）

20-120℃

工作壓力

進氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力）

進氣方式

采用防倒流設計

規格

中真空（集成型請單獨購買）

系統真空范圍

10Pa-100Pa