掩膜版（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是微電子制造過程中的圖形轉移工具或母版，是承載圖形設計和工藝技術等知識產權信息的載體。掩膜版用于下游電子元器件制造業(yè)批量生產，是下游行業(yè)生產流程銜接的關鍵部分，是下游產品精度和質量的決定因素之一。

掩膜版的功能類似于傳統(tǒng)照相機的“底片”，其工作原理如下：根據(jù)客戶所需要的圖形，掩膜版廠商通過光刻制版工藝，將微米級和納米級的精細圖案刻制于掩膜版基板上，掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微細光掩膜圖形的感光空白板，再將不需要的金屬層和膠層洗去，即得到掩膜版產成品。掩膜版對下游行業(yè)生產線的作用主要體現(xiàn)為利用掩膜版上已設計好的圖案，通過透光與非透光的方式進行圖像（路圖形）復制，從而實現(xiàn)批量生產。

掩膜板產品特點：

1、低開模費,可以按設計人員的設計要求進行掩膜圖形任意更改，成本低

2、能實現(xiàn)金屬的半刻，增加公司LOGO，實現(xiàn)品牌化生

3、可達+/-0.0075mm的精度，滿足不同產品的組裝要求

4、復雜外形產品同樣可以蝕刻，無需額外增加成本

5、沒有毛刺，壓點，產品不變形,不改變材料性質，不影響產品的功能

6、厚薄材料都可以一樣加工，滿足不同裝配組件的要求

7、幾乎所有金屬都能被蝕刻，對各種圖案設計無限制

8、制造各類機械加工所無法完成的金屬部件

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