廈門韞茂粉末原子層沉積
一、粉末原子層沉積核心參數(shù)：
產(chǎn)地類別：國(guó)產(chǎn)原子層沉積系統(tǒng)（ALD）
襯底尺寸：10g-1000g粉末
工藝溫度：RT-300℃
前驅(qū)體數(shù)：2組反應(yīng)氣體8組液態(tài)或固態(tài)反應(yīng)前驅(qū)體
重量：300KG
尺寸(WxHxD)：1150*1030*1850mm
均勻性：在粉末表面實(shí)現(xiàn)均勻原子層包覆,包覆均一性<3%
二、原子層沉積（Atomiclayerdeposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)腔體內(nèi)并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種技術(shù)，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應(yīng)用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、高保形的納米薄膜。
三、粉末原子層沉積產(chǎn)品描述：
廈門韞茂科技公司的GM系列自動(dòng)粉末原子層沉積設(shè)備它可以在微納米粉體上實(shí)現(xiàn)均勻可控的原子層沉積或分子層沉積生長(zhǎng)，GM1000的反應(yīng)室可自動(dòng)運(yùn)行ALD(原子層沉積)或MLD(分子層沉積)，設(shè)備配有獨(dú)立控制的300℃完整加熱反應(yīng)腔室系統(tǒng)，保證工藝溫度均勻。該系統(tǒng)具有粉末樣品桶、動(dòng)態(tài)粉末流化機(jī)構(gòu)、全自動(dòng)溫度控制、ALD前驅(qū)體源鋼瓶、自動(dòng)溫度控制閥、工業(yè)級(jí)安全控制，以及現(xiàn)場(chǎng)RGA、QCM、臭氧發(fā)生器、手套箱等設(shè)計(jì)選項(xiàng)。是能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應(yīng)用的研發(fā)工具。
粉末原子層沉積
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