廈門韞茂原子層沉積系統(tǒng)廠家
原子層沉積（Atomiclayerdeposition)是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、高保形的納米薄膜。
原子層沉積系統(tǒng)廠家產品描述：
廈門韞茂科技公司研發(fā)的超小型桌式ALD原子層沉積設備是材料研究的有力設備之一，它可以在4寸晶元（向下兼容）和微納米粉體上實現均勻可控的原子層沉積，具有廣泛的應用領域，設各配有獨立控制的300℃完整加熱反應腔室系統(tǒng)，保證工藝溫度均勻，該系統(tǒng)具有粉末樣品桶、晶元載盤，全自動溫控制、ALD前驅體源鋼瓶、自動溫度控制閥、工業(yè)級安全控制，以及現場RGA、QCM、臭氧發(fā)生器、手套箱等設計選項，是能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應用的研發(fā)工具
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