凈化原理

該凈化機利用催化劑促使氬氣中的微量氧氣與碳反應(yīng)生成二氧化碳，從而除去氬氣中的雜質(zhì)氧氣，再利用分子篩吸附脫除氬氣中的H₂O、CO₂等雜質(zhì)，再利用合金吸附劑吸附脫除氬氣中剩余的的N₂等惰性雜質(zhì)，即可得到高純氬氣。

氬氣凈化機的技術(shù)參數(shù)

 對原料氬氣要求

一般瓶裝純氬，液氬、控制較好的管道氬氣。

雜質(zhì)要求： O₂≤1000PPm, H₂O≤1000PPm。

 輸出純氣

純度：99.9999%

雜質(zhì)含量：

O₂≤0.1PPm，

H₂O≤1PPm(即露點≤－76℃)，

N₂≤0.5PPm

CO+CO₂≤0.1PPm，

S、P的氧化物≤0.1PPm。

塵埃粒子數(shù)（≥0.3μm）3-5個／升。

工作壓力：0.4-0.8MPa。

 處理氣量：4NM³/h。

設(shè)備尺寸：600mm×700mm×1600mm

設(shè)備重量：150kg

設(shè)備特點

1)  催化劑活性高，凈化后的氣體純度高。

2)  雙式結(jié)構(gòu)，一組工作另一組再生備用，故能長期連續(xù)供氣。

3)  采用本機純氣吹掃的再生流程，再生不用氫，故不需專用機房，安全性好。

4)  CZA-4C對再生具有自動功能，操作比老產(chǎn)品更簡單，并且不易出錯，性能也更穩(wěn)定可靠。

5)  CZA-4C克服了老產(chǎn)品偶爾會產(chǎn)生“假斷偶保護”使再生不能進行的缺點。

6)  系統(tǒng)采用零泄露的波紋管閥門，設(shè)備的可靠性更高。

7)  采用分級凈化的原理，預(yù)先除去氬氣中的活性雜質(zhì)，如O₂、H₂O、CO₂等，再深度凈化，大大延長了設(shè)備的使用壽命。

8)  增加了除氮功能，氬氣的純度更高。

CZA-4C型氬氣凈化機可與美國熱電，德國斯派克、OBFL、布魯克；瑞士ARL，牛津光譜、日本島津，北京納克，英國阿朗，北京瑞利等多家光譜儀公司生產(chǎn)的直讀光譜儀、熒光光譜儀、輝光光譜儀配套使用，以增強分析數(shù)據(jù)的可靠性和穩(wěn)定性，同時可以較大的節(jié)省購買高純氬氣的成本。該型機器尤其適用于與帶氮通道的直讀光譜儀配套使用，同時該凈化機也可用作高純材料（如單晶硅、多晶硅、高純金屬）生產(chǎn)的保護氣氛。

售后服務(wù)

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